5 นาโนของจีนมาแล้ว

SMIC บริษัทผลิตชิปยักษ์ใหญ่ของจีน ออกมาประกาศว่าสามารถเดินหน้าการผลิตชิประดับ 5 นาโนเมตร หรือ SMIC N+3 แบบ Mass Production ได้สำเร็จ โดยความน่าสนใจที่สุดคือการผลิตนี้เกิดขึ้นโดยไม่พึ่งพาเครื่อง EUV (Extreme Ultraviolet) ที่โดนแบนไป แต่ใช้เทคนิคขั้นสูงบนเครื่อง DUV (Deep Ultraviolet) แทน

.

ซึ่งทาง TechInsights ได้ยืนยันผ่านการชำแหละชิป Huawei Kirin 9030 SoC รุ่นล่าสุดที่พบในสมาร์ทโฟนตระกูล Mate 80 ว่าถูกผลิตด้วยเทคโนโลยี N+3 นี้จริง นับเป็นก้าวสำคัญที่ทำให้จีนขยับเข้าใกล้เป้าหมายการพึ่งพาตนเองด้านเซมิคอนดักเตอร์ไปอีกขั้น

.

ในเชิงเทคนิค การผลิตชิปขนาดเล็กเช่นนี้ด้วยเครื่อง DUV ถือเป็นเรื่องที่ท้าทายอย่างยิ่ง เนื่องจากเครื่อง DUV มีความยาวคลื่นแสงอยู่ที่ 193 นาโนเมตร ซึ่งกว้างกว่าเครื่อง EUV ที่มีคลื่นแสงเพียง 13.5 นาโนเมตรอย่างมาก SMIC จึงต้องใช้เทคนิคที่เรียกว่า Multi-patterning หรือการพิมพ์ลวดลายซ้ำหลายครั้ง

.

รวมถึงการใช้กระบวนการ SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) และการปรับแต่งการออกแบบร่วมกับการผลิต (DTCO) เพื่อบีบอัดขนาดของวงจรให้เล็กลงเท่าที่จะทำได้ แม้เทคนิคเหล่านี้จะช่วยให้สามารถผลิตชิปที่มีความหนาแน่นของทรานซิสเตอร์สูงขึ้นได้

.

แต่ผู้เชี่ยวชาญมองว่าโหนด N+3 นี้เป็นการนำเทคโนโลยี 7 นาโนเมตรเดิมมาตีบวก (Scaled Extension) มากกว่าจะเป็นการก้าวกระโดดสู่เทคโนโลยี 5 นาโนเมตรอย่างเต็มตัวแบบที่ TSMC หรือ Samsung ทำ

อย่างไรก็ตามความก้าวหน้านี้ต้องแลกมาด้วยต้นทุนที่มหาศาลและอุปสรรคด้านประสิทธิภาพการผลิต เนื่องจากเทคนิคที่นำมาใช้ผลิตชิปเป็นการกัดลายวงจรซ้ำหลายรอบจนกว่าจะได้ขนาดที่ต้องการ ทำให้มีความผิดพลาดสูงกว่า ส่งผลให้ Yield ของชิปอยู่ในระดับต่ำมาก

.

นักวิเคราะห์คาดการณ์ว่าชิป Kirin 9030 น่าจะถูกผลิตภายใต้สภาวะที่ยอม "ขาดทุน" ในเชิงธุรกิจ โดยมีชิปจำนวนมากที่ต้องถูกทิ้งหรือนำไปลดสเปกเพื่อใช้งานในรุ่นอื่น แต่สำหรับจีนแล้ว นี่คือการลงทุนที่คุ้มค่าเพื่อแลกกับความก้าวหน้าทางเทคโนโลยีและการสร้างระบบนิเวศที่พึ่งพาตัวเองได้ในระยะยาว ท่ามกลางการถูกปิดกั้นเทคโนโลยีจากตะวันตก

.

ที่มา : tomshardware

#ข่าวไอที #รวมเรื่องไอที #ไอที่น่ารู้ #ไอที