Automatically translated.View original post

5 Chinese nanos are here.

SMIC, a major Chinese chip company, has announced that it has successfully completed mass production of 5 nm or SMIC N + 3 chips. Most interestingly, it is made without relying on the banned EUV, but using advanced techniques on the Deep Ultraviolet.

.

which TechInsights has confirmed through the dissecting of the latest Huawei Kirin 9030 SoC chip found in the Mate 80 family of smartphones to have actually been manufactured with this N + 3 technology, a significant step forward in China's move a step closer to its semiconductor self-reliance goal.

.

Technically, producing such a small chip with a DUV machine is considered extremely challenging. Since a DUV machine has a wavelength of 193 nm, which is significantly wider than an EUV machine with only 13.5 nm of light waves, SMIC requires a technique called Multi-patterning or multiple pattern reprinting.

.

Includes the use of the SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) process and design refinement in conjunction with manufacturing (DTCO) to compress the size of the circuit as small as possible; even these techniques allow chips with higher transistor densities to be produced.

.

But experts view the N + 3 node as a positive implementation of the original 7-nanometer technology (Scaled Extension) rather than a leap into the full-body 5-nanometer technology that TSMC or Samsung did.

However, this breakthrough was at the expense of enormous costs and productivity barriers, as the techniques used to manufacture the chip as a repeated circuit pattern milling multiple cycles until the desired size was achieved, causing higher faults, resulting in a very low Yield of the chip.

.

Analysts predict that the Kirin 9030 chip will likely be produced under business "loss-making" conditions, with many chips having to be scrapped or reduced to specs for use in other models, but for China this is a worthwhile investment in exchange for technological advances and the construction of a long-term self-reliant ecosystem amid Western technology blocking.

.

Source: tomshardware

# IT News # Includes IT matters # Cough to know # IT

2025/12/24 Edited to

... Read moreสำหรับผู้ที่สนใจเรื่องเทคโนโลยีการผลิตชิป SMIC ใช้วิธีที่เรียกว่า Multi-patterning ร่วมกับเทคนิค SAQP (Self-Aligned Quadruple Patterning) เพื่อชดเชยข้อจำกัดของเครื่อง DUV ที่มีความยาวคลื่นแสงอยู่ที่ 193 นาโนเมตร ซึ่งแตกต่างจากเครื่อง EUV ที่มีเพียง 13.5 นาโนเมตร การทำซ้ำขั้นตอนการกัดลายหลายรอบช่วยให้สามารถลดขนาดทรานซิสเตอร์ได้ใกล้เคียงกับเทคโนโลยี 5 นาโนเมตร แม้จะยังไม่ใช่เทคโนโลยี EUV แท้ ๆ ก็ตาม อย่างไรก็ตาม วิธีนี้ยังมีข้อจำกัดในแง่ของต้นทุนสูงและอัตราสำเร็จ (yield) ที่ต่ำกว่า ส่งผลให้ชิป Kirin 9030 ที่ผลิตด้วยวิธีนี้อาจมีจำนวนมากที่ต้องถูกคัดทิ้งหรือลดสเปก สำหรับจีน การยอมลงทุนและยอมรับความเสี่ยงนี้เป็นเหมือนการเดินหน้าสร้างฐานเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ของตัวเอง ท่ามกลางสงครามการค้าทางเทคโนโลยีและการถูกแบนเครื่องมืออันทันสมัยจากตะวันตก จึงเป็นก้าวแรกที่มีความสำคัญอย่างยิ่งสำหรับอนาคตอุตสาหกรรมไอทีและมือถือของจีน สุดท้าย ผมแนะนำว่าแม้จะยังไม่เสมือนเทคโนโลยี 5 นาโนเมตรของ Samsung หรือ TSMC ที่ใช้ EUV แต่วิธีนี้ก็น่าสนใจและควรจับตาดูต่อไปว่า SMIC จะพัฒนาเทคโนโลยีนี้ให้มีประสิทธิภาพและต้นทุนที่แข่งขันได้อย่างไรในอนาคตครับ